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序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
1 | CN106227003A | 一种显影液组合物及其制备方法 | 2016.12.14 | 本发明涉及一种显影液,重量百分比组成如下:有机碱:0.01‑60%,非离子表面活性剂:0.01‑10 |
2 | CN106479504A | 一种用于ITO‑Ag‑ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法 | 2017.03.08 | 本发明涉及一种用于ITO‑Ag‑ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法,其重量百分比组成如下:硝酸 |
3 | CN106479505A | 一种用于ITO导电薄膜的高精细蚀刻液及其制备方法 | 2017.03.08 | 一种用于ITO导电薄膜的高精细蚀刻液及其制备方法,重量百分比组成如下:硝酸2~8%,硫酸2~12%, |
4 | CN105908188A | 一种用于TFT铜钼叠层的双氧水系蚀刻液 | 2016.08.31 | 本发明涉及薄膜晶体管铜钼层叠膜蚀刻技术领域,具体涉及一种TFT铜钼层叠膜蚀刻液组合物,对于组合物的总 |
5 | CN205193430U | 显影液在线回收循环利用系统 | 2016.04.27 | 本实用新型涉及一种显影液在线回收循环利用系统,包括送料泵、用于对显影废液进行吸附脱色的吸附装置、用于 |
6 | CN105314770A | 四甲基氢氧化铵显影废液再生系统和再生方法 | 2016.02.10 | 本发明涉及一种四甲基氢氧化铵显影废液再生系统和再生方法。所述系统包括若干送料泵、中和分离装置、吸附装 |
7 | CN103418206B | 一种乙醇蒸汽辅助半导体/面板生产中有机废气回收装置 | 2016.01.27 | 一种乙醇蒸汽辅助半导体/面板生产中有机废气回收装置,包括除水器、乙醇蒸发器、回收塔和乙醇吸收装置,所 |
8 | CN101314573B | 离子交换树脂处理四甲基碳酸铵的方法 | 2010.12.08 | 本发明公开了一种离子交换树脂处理四甲基碳酸铵的方法,将树脂用酸活化后,用不溶于水和耐酸碱的树脂处理四 |
9 | CN203577480U | 一种直流降膜除雾器 | 2014.05.07 | 本实用新型公开一种直流降膜除雾器,包括呈圆筒形的壳体,所述的壳体底部设置有排气口,所述的壳体顶部的侧 |
10 | CN203590273U | 一种可翻转的双屏手机 | 2014.05.07 | 本实用新型公开一种可翻转的双屏手机,包括包括具有主屏幕的手机本体,所述的手机本体通过旋转铰链铰接有一 |
11 | CN203588141U | 一种折叠式的双屏平板电脑 | 2014.05.07 | 本实用新型公开一种折叠式的双屏平板电脑,包括具有主屏幕的平板电脑本体,所述的平板电脑本体通过旋转铰链 |
12 | CN203545915U | 四甲基氢氧化铵提浓装置 | 2014.04.16 | 一种四甲基氢氧化铵提浓装置,包括废液槽、过滤装置和电渗析装置,所述废液槽包括吸附剂进口和废液进口,所 |
13 | CN203428994U | 一种四甲基氢氧化铵提浓装置 | 2014.02.12 | 一种四甲基氢氧化铵提浓装置,包括废液槽、过滤装置和反渗透槽,所述废液槽设有用以废液流入的第一进口和用 |
14 | CN203425677U | 利用乙醇蒸汽辅助半导体/面板生产中有机废气回收装置 | 2014.02.12 | 一种利用乙醇蒸汽辅助半导体/面板生产中有机废气回收装置,包括除水器、乙醇蒸发器、回收塔和乙醇吸收装置 |
15 | CN203425693U | 半导体/面板厂有机废气净化的装置 | 2014.02.12 | 一种半导体/面板厂有机废气净化的装置,包括除水器、压缩器、膜分离器和冷凝器,所述除水器的进口为有机废 |
16 | CN203425676U | 在线循环利用剥离液有机废气的装置 | 2014.02.12 | 一种在线循环利用剥离液有机废气的装置,包括除水器、常温水冷凝器、冰盐水冷凝器、冷凝液接收器、阳离子交 |
17 | CN203433266U | 一种显影液中光刻胶树脂回收再利用装置 | 2014.02.12 | 一种显影液中光刻胶树脂回收再利用装置,包括废液槽、第一过滤装置、溶解槽、第二过滤装置、纳滤装置和浓缩 |
18 | CN203425689U | 半导体/面板生产中有机废气回收再利用装置 | 2014.02.12 | 一种半导体/面板生产中有机废气回收再利用装置,所述有机废气回收再利用装置包括除水器、有机废气吸收器和 |
19 | CN203433267U | 显影液中光刻胶树脂回收再利用装置 | 2014.02.12 | 一种显影液中光刻胶树脂回收再利用装置,包括废液槽、第一过滤装置、溶解槽、第二过滤装置、阳离子交换树脂 |
20 | CN203429267U | 一种四甲基氢氧化铵回收再利用装置 | 2014.02.12 | 一种四甲基氢氧化铵回收再利用装置,包括废液槽、第一过滤装置、储液槽、第二过滤装置、浓缩装置和含离子膜 |
21 | CN203429266U | 一种电子级四甲基氢氧化铵生产装置 | 2014.02.12 | 一种电子级四甲基氢氧化铵生产装置,所述生产装置包括阴离子树脂塔、阳离子树脂塔、电解槽和过滤器,所述阴 |
22 | CN203429003U | 四甲基氢氧化铵回收再利用装置 | 2014.02.12 | 一种四甲基氢氧化铵回收再利用装置,包括废液槽、过滤装置和阳离子交换树脂塔,所述废液槽包括用于引入显影 |
23 | CN103418206A | 一种乙醇蒸汽辅助半导体/面板生产中有机废气回收装置 | 2013.12.04 | 一种乙醇蒸汽辅助半导体/面板生产中有机废气回收装置,包括除水器、乙醇蒸发器、回收塔和乙醇吸收装置,所 |
24 | CN102981523A | 在线测定和控制铝蚀刻液中各种酸浓度的方法 | 2013.03.20 | 本发明提供一种在线测定和控制铝蚀刻液中各种酸浓度的方法,通过在线取样进入自动滴定仪,利用动态pH滴定 |
25 | CN102967686A | 在线测定和控制ITO蚀刻液中各酸浓度的方法 | 2013.03.13 | 本发明提供一种在线测定和控制ITO蚀刻液中各酸浓度的方法,通过对ITO蚀刻液供应槽在线取样,样品进入 |
26 | CN102951761A | 光刻胶剥离液废液的回收方法 | 2013.03.06 | 本发明提供了一种光刻胶剥离液废液的回收方法,特别是指将半导体基材上残留的光刻胶除去后的光刻胶剥离液废 |
27 | CN102923963A | 一种玻璃减薄刻蚀液补充液 | 2013.02.13 | 本发明公开了一种玻璃减薄刻蚀液补充液,可显著延长玻璃刻蚀液的使用寿命,减少或免除刻蚀废液的处理过程。 |
28 | CN102929109A | 一种负性光刻胶显影液及其应用 | 2013.02.13 | 本发明涉及一种负性光刻胶显影液及其应用,显影液组分为由碱性物质和阴离子表面活性剂构成的水溶液。其中的 |
29 | CN201217697Y | 内衬超纯塑料的离子膜电解槽 | 2009.04.08 | 本实用新型公开了一种内衬超纯塑料的离子膜电解槽,包括通过压紧装置固定的若干个带有槽框的单元槽组成,所 |
30 | CN101314572A | 一种管式反应器缩合反应制备四甲基碳酸氢铵的方法 | 2008.12.03 | 本发明公开了一种管式反应器缩合反应制备四甲基碳酸氢铵的方法,包括:将原料碳酸二甲酯(DMC)和三甲胺 |
31 | CN101314573A | 离子交换树脂处理四甲基碳酸铵的方法 | 2008.12.03 | 本发明公开了一种离子交换树脂处理四甲基碳酸铵的方法,将树脂用酸活化后,用不溶于水和耐酸碱的树脂处理四 |
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